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什麽是擴散爐?它有什麽用處?

發布時間:2018-08-25    

擴散爐是集成電路生產線前工序的重要工藝設備之一,它的主要用途是對半導體進行摻雜,即在高溫條件下將摻雜材料擴散入矽片,從而改變和控製半導體內雜質的類型、濃度和分布,以便建立起不同的電特性區域。


擴散爐



雖然某些工藝可以使用離子注入的方法進行摻雜,但是熱擴散仍是最主要、最普遍的摻雜方法。矽的熱氧化作用是使矽片表麵在高溫下與氧化劑發生反應,生長一層二氧化矽膜。氧化方法有幹氧氧化和水汽氧化(含氫氧合成)兩種,擴散爐是用這兩種氧化方法製備氧化層的必備設備。

擴散爐是半導體集成電路工藝的基礎設備,它與半導體工藝互相依存、互相促進、共同發展。

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